捷佳伟创：12月2日称半导体等设备已出货并持续研发

快讯摘要

12月2日捷佳伟创在互动平台透露，半导体清洗等设备已出货，正持续研发其他相关设备。

快讯正文

【捷佳伟创半导体及泛半导体设备有进展】 12月2日，捷佳伟创在互动平台透露，公司半导体清洗设备、碳化硅高温热处理工艺设备已出货给客户。此外，公司正持续研发其他半导体及泛半导体相关设备。

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