历史新高!A股盘中,集体拉升!

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  CPO概念股,涨势凶猛!

  最近几个交易日,随着贸易紧张情绪的缓解,A股科技股持续上行,芯片、光刻机、CPO等方向领涨。今日(10月27日)盘中,上述板块再度拉升,CPO指数一度涨超4.70%,光刻机板块一度涨超5%。

  截至中午收盘,万得CPO指数涨幅仍超过4%。其中,新易盛、生益科技、中际旭创、东田微、源杰科技、生益电子等相关概念股在盘中均创出历史新高。光刻机板块涨幅接近3%,万润股份涨停,晶瑞电材涨超15%。

  从整体A股市场来看,沪指震荡走强,再创十年新高,逼近4000点大关。沪深两市半日成交额1.57万亿,半日放量超3300亿。截至午间收盘,沪指涨1.04%,深成指涨1.26%,创业板指涨1.54%。午后开盘后,A股三大指数继续保持强势。

  CPO概念股集体大涨

  继上周五大涨5%后,CPO指数今日再度拉升,盘中最高涨幅一度达到4.71%。个股方面,东田微一度触及20%涨停,仕佳光子一度涨超15%,生益电子一度涨超13%,新易盛一度涨超10%,生益科技涨近10%,景旺电子、华工科技、东山精密、天孚通信、德明利、工业富联等纷纷跟涨。

  当天盘中,近10只CPO概念股的股价创出历史新高,包括新易盛、生益科技、中际旭创、东田微、源杰科技、生益电子、德明利、环旭电子等。

  消息面上,10月24日,中共中央举行新闻发布会,介绍和解读党的二十届四中全会精神。会上,科技部党组书记、部长阴和俊表示,中国政府高度重视人工智能,持续营造良好的创新生态,推动人工智能加快发展。

  阴和俊表示,下一步,将认真贯彻落实《中共中央关于制定国民经济和社会发展第十五个五年规划的建议》要求,持续加强“十五五”人工智能顶层设计和体系化部署。继续加强基础研究和关键核心技术攻关,聚力开发新的模型算法、高端算力芯片,不断夯实人工智能发展的技术根基。深入实施“人工智能+”行动,推动人工智能与科技创新、产业发展、消费提质、民生保障等深度融合。

  华安证券近日发布的研报指出,四中全会强调全面增强科技自主创新能力,可重点把握科技新一轮成长产业景气的投资机会。本轮产业周期以AI算力基建为代表,具体可关注泛TMT、算力(CPO/PCB/液冷/光纤)等。开源证券也表示,随着“十五五”规划建议提出科技自主可控成为重点工作目标,国产算力板块有望成为市场主线。同时持续看好AI浪潮下的存储周期和消费电子的创新周期。

  另外,全球算力高景气度延续。10月23日,Anthropic与谷歌正式宣布价值百亿美元的云服务合作协议,预计带来百万级谷歌定制TPU芯片,并在2026年带来预计1GW的AI算力。有分析称,这一事件凸显出全球AI算力需求正呈现指数级增长,开发和训练尖端AI系统的成本急剧飙升,也表明云服务提供商的自研芯片正成为英伟达之外不可忽视的力量。从全球AI算力产业链角度看,此次合作进一步强化了“多元算力供应”趋势。

  开源证券认为,上述合作有望提升Claude模型性能的同时,强化Anthropic和谷歌的合作关系,也凸显TPU芯片的性价比和泛用性。海外各AI模型厂商加强与上下游合作,AI军备竞赛持续,有望持续带动算力产业链需求。

  光刻机板块也大幅异动

  光刻机概念股今日盘中也大幅拉升,板块指数涨幅一度超过5%。截至中午收盘,万得光刻机指数涨幅仍接近3%。个股方面,万润股份涨停,晶瑞电材涨超15%,锦华新材涨近10%,佳先股份、迦南科技涨超8%,南大光电、富创精密等涨超6%,江化微涨幅也接近6%。

  消息面上,国家标准委网站显示,我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外(EUV)光刻胶测试方法》作为拟立项标准,10月23日开始公示,截止时间为11月22日。标准的起草单位包括上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备(集团)股份有限公司。

  另据科技日报报道,近日,北京大学彭海琳教授团队及其合作者,通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为,分辨率优于5纳米。这一发现不仅揭示了光刻胶分子在溶液中的微观物理化学行为,更指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案,有效清除了12英寸晶圆图案表面的光刻胶残留,为提升光刻精度与良率开辟新路径。

  彭海琳表示,光刻是芯片制造中关键的步骤之一,通俗理解,光刻就是给半导体晶圆(比如硅片)“印电路”,核心是用超精密“投影仪”把设计好的电路图案,缩小后印在硅片的特殊薄膜上,再通过冲洗定型。光刻是芯片制造的核心技术之一,更是微纳加工领域“皇冠上的明珠”。

  显影液则在电路图案形成过程中发挥着重要作用。在光刻胶显影过程中,光刻胶的曝光区域会选择性地溶解在显影液的液膜中。液膜中光刻胶分子的吸附与缠结行为,是影响晶圆表面图案缺陷形成的关键因素,进而可直接影响芯片性能和良率。

  有券商指出,光刻胶作为半导体、印制电路板、平板显示等行业的基础材料,其技术进步可以促进相关产业链的协同发展,上游材料供应商、设备制造商,中游光刻胶生产企业,以及下游光刻胶产品应用企业都能从中受益。

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